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全自动晶圆电镀设备
全自动晶圆电镀设备
设备名称:全自动晶圆电镀设备
设备系列:SP系列
设备分类:生产型(P),研发型(R)
工艺类别:晶圆电镀
晶圆尺寸:4-12inch
工艺类型:Au,Cu,Ni,Sn,Ag,Pd,Au/Sn alloy …
工艺应用:RDL,PillarBumpTSV
工艺操作:自动
晶圆类型:Si,GaAs,GaN,InP,SiC,Ceramic,Glass …
晶圆尺寸:2-12inch
应用领域
RDL,PillarBumpTSV

产品特点

1.兼容12inch与8inch wafer;
2.全自动运行,foupin-foupout;
3.dry in- dry out ;
4.程式可自由选择镀Cu or 镀Cu/Sn or 镀Au,自由切换;
5.扫码或RFID感应自动选择程式,无需操作员选择;
6.不锈钢SUS316骨架,包覆NPP,结实且
耐腐蚀 ;
7.工控机+PLC控制,系统稳定;
8.Windows操作系统,简单方便;
9.支持EAP功能;
10.兼容半导体通用SECS/GEM 技术协议;
11.具备自动添加功能。

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